Werkwijze en inrichting voor het deponeren van een althans ten dele kristallijne siliciumlaag op een substraat.

E.A.G. Hamers (Inventor), A.H.M. Smets (Inventor), M.C.M. Sanden, van de (Inventor), D.C. Schram (Inventor)

Research output: PatentPatent publication

Abstract

No abstract
Original languageEnglish
Patent numberNL1017849
Publication statusPublished - 30 Oct 2002

Fingerprint Dive into the research topics of 'Werkwijze en inrichting voor het deponeren van een althans ten dele kristallijne siliciumlaag op een substraat.'. Together they form a unique fingerprint.

Cite this