Second harmonic generation in fundamental plasma-processing studies: Si etching

A.A.E. Stevens, J.J.H. Gielis, P.M. Gevers, H.C.W. Beijerinck, W.M.M. Kessels

Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contributionAcademic

Original languageEnglish
Title of host publicationWetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie; Veldhoven, The Netherlands, 14-15 December, 2004
Place of PublicationVeldhoven, The Netherlands
Publication statusPublished - 2004
Eventconference; Wetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie; 2004-12-14; 2004-12-15 -
Duration: 14 Dec 200415 Dec 2004

Conference

Conferenceconference; Wetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie; 2004-12-14; 2004-12-15
Period14/12/0415/12/04
OtherWetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie

Cite this

Stevens, A. A. E., Gielis, J. J. H., Gevers, P. M., Beijerinck, H. C. W., & Kessels, W. M. M. (2004). Second harmonic generation in fundamental plasma-processing studies: Si etching. In Wetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie; Veldhoven, The Netherlands, 14-15 December, 2004 Veldhoven, The Netherlands.