Abstract
Het vormen van patronen in materialen is een van de belangrijkste stappen voor het fabriceren van geïntegreerde schakelingen. Het gebruik van nieuwe nanomaterialen zoals nanodraden, koolstof nanobuisjes en grafeen in de toekomstige nano-elektronica, vereist de ontwikkeling van nieuwe patroonvormingsmethodes waarbij beheersing van kritische dimensies, materiaalkwaliteit en betrouwbaarheid centraal staan. Als alternatief voor het gebruik van lithografie presenteren we een nieuwe bottom-up-methode gebaseerd op een combinatie van twee depositietechnieken: atoomlaagdepositie (ALD) en elekronenbundelgeïnduceerde depositie (EBID)
| Original language | Dutch |
|---|---|
| Pages (from-to) | 290-293 |
| Number of pages | 4 |
| Journal | Nederlands Tijdschrift voor Natuurkunde |
| Volume | 78 |
| Issue number | 7 |
| Publication status | Published - 2012 |