Abstract
Samen met het Esi en de TUE heeft ASML een multidisciplinaire modelgebaseerde ontwikkelomgeving op poten gezet. In dit artikel beschrijven zij hoe de omgeving helpt om de toenemende complexiteit van de Veldhovense lithografiesystemen het hoofd te bieden.
| Original language | Dutch |
|---|---|
| Pages (from-to) | 34-37 |
| Journal | Bits & Chips : Nieuwsmagazine voor de Hightechindustrie |
| Volume | 4 |
| Publication status | Published - 2012 |