Modelgebaseerd ontwerp van regelaars in lithoscanners

Research output: Contribution to journalArticlePopular

Abstract

Samen met het Esi en de TUE heeft ASML een multidisciplinaire modelgebaseerde ontwikkelomgeving op poten gezet. In dit artikel beschrijven zij hoe de omgeving helpt om de toenemende complexiteit van de Veldhovense lithografiesystemen het hoofd te bieden.
Original languageDutch
Pages (from-to)34-37
JournalBits & Chips : Nieuwsmagazine voor de Hightechindustrie
Volume4
Publication statusPublished - 2012

Cite this