Abstract
In dit artikel beschrijven we de succesvolle depositie door middel van een expanderend thermisch plasma (ETP) van polykristallijn silicium (poly-Si), een aantrekkkelijk materiaal voor dunne-film zonnencellen.
| Original language | Dutch |
|---|---|
| Pages (from-to) | 6-11 |
| Journal | Nevac Blad |
| Volume | 51 |
| Issue number | 1 |
| Publication status | Published - 2013 |