Abstract
Elektronische apparatuur, zoals slimme telefoons, tabletcomputers en navigatiesystemen zijn niet meer uit het dagelijks leven weg te denken. Hun ontwikkeling is mogelijk gemaakt door verregaande miniaturisatie van geïntegreerde schakelingen (IC’s), die grotendeels te danken is aan de vooruitgang van lithografische apparatuur. Het verkrijgen van de benodigde nanometer positienauwkeurigheid tijdens een met hoge snelheid scannende beweging is mede mogelijk gemaakt door regeltechnische oplossingen.
De leerstoel Lithographic Scanner Control levert vanuit de regeltechniek een bijdrage aan hogere nauwkeurigheid, zowel van de snel bewegende stages als van de machineonderdelen die juist extreem stil moeten staan, zoals projectielenzen en sensoren. In de intreerede zal Hans Butler het lithografisch proces en het belang van nauwkeurigheid daarin belichten, uiteenzetten hoe het regeltechnisch ontwerp van de stages daaraan een bijdrage heeft geleverd en aanstippen welke
ontwikkelingen nog te verwachten zijn.
Original language | English |
---|---|
Place of Publication | Eindhoven |
Publisher | Technische Universiteit Eindhoven |
Number of pages | 28 |
ISBN (Print) | 978-90-386-3401-2 |
Publication status | Published - 2013 |